真空管式炉是一款卧式密闭管式高温热处理设备，集成真空、气氛、程控加热一体化系统，主要用于实验室与中试生产。设备采用双层风冷炉体，两端真空法兰密封炉管，可抽至真空状态或通入氮气、氩气等保护气氛，隔绝空气避免工件氧化。

气氛管式炉为真空密封管式热处理设备，覆盖 1200℃~1700℃全温度系列，两端法兰密封结构可抽真空并通入氮气、氩气、氮氢混合保护气，避免试样高温氧化。设备采用双层风冷全纤维保温炉膛，搭配石英 / 刚玉 / 不锈钢多规格炉管，PLC 可编程温控精准控温，配备气压、超温、回火多重安全联锁。广泛用于新能源粉体、耐火陶瓷、粉末冶金、催化材料的无氧烧结、还原、退火试验，操作简单、维护方便。

低温管式炉是 600℃/800℃两档中低温实验室热处理设备，采用电阻丝加热、双层风冷炉体，标配石英密封炉管，可通入保护气体或搭配真空泵实现真空环境。设备搭载可编程 PID 温控，控温精准、操作简便、运行安全，多用于催化剂焙烧、粉体低温煅烧、金属回火、样品热解脱脂等中低温实验，体积小巧、维护成本低，是化工、材料实验室通用基础设备。

实验室管式炉是高校、科研院所、新材料企业常用小型高温热处理设备，炉管水平密闭安装，搭配两端密封法兰，可在空气、惰性、还原性气氛或真空环境下完成各类材料高温实验。

立式管式炉是炉膛、炉管垂直布置的高温热处理设备，区别于卧式管式炉，依靠垂直腔体适配吊挂、下落淬火、垂直气相沉积、单晶生长等重力相关特种工艺。 整机采用双层风冷炉壳、轻质氧化铝纤维保温，搭配上下真空密封法兰，可通入氮气、氩气、氢气等保护气体，也可配套真空泵实现真空环境热处理。

卧式管式炉是水平贯通式通用高温热处理设备，采用横置炉管结构，样品可水平推入 / 拉出，操作便捷，支持常压、真空、惰性 / 还原性气氛等多种工作环境，是高校实验室、新材料企业、电子半导体、冶金、陶瓷等领域用于高温烧结、退火、还原、CVD 沉积、粉体焙烧的核心装备。